Razlike između izmjena na stranici "Amorfnost"

Dodana 934 bajta ,  prije 9 godina
nema sažetka uređivanja
m/м (r2.7.1) (robot Dodaje: ca:Sòlid amorf)
 
Sto se tice specificne primjene, amorfni metalni slojevi su igrali vaznu ulogu u diskusiji o navodnoj superprovodljivosti amorfnih metala. Danas se opticki pokrivaci koji se prave od TiO<sub>2</sub>, SiO<sub>2</sub>, Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> itd. i njihove kombinacije se vecinom sastoje od amorfnih faza ovih komponenata. Tanki amorfni filmovi se takodje primjenjuju za razdvajanje gasa kod slojeva membrana. Uglavnom su napravljeni od tankog sloja slojeva SiO<sub>2</sub> koji su debeli nekoliko nm koji sluze kao izolator iznad provodnog kanala MOSFET-a. Takodje, hidrogenizovani amorfni silicijum tj. a-Si:H ima tehnicku primjenu u solarne celije na bazi tankih filmova. Kod a-Si:H nedostatak uredjenosti izmedju atoma silicijuma se javlja zbog prisustva vodonika u vidu nekoliko procenata.
 
Pojavljivanje amorfnih faza je takodje vazno u proucavanju rasta tankih filmova. Rast polikristalnih filmova cesto pocinje amorfnim sloja, cija debljina moze biti samo nekoliko nm. Najbolje ispitan primjer je tanki polikristalni silicijumski film gdje je pocetni amorfni sloj posmatran u mnogim ispitivanjima. Komadi polikristala su identifikovani pomocu transmisionog elektronskog mikroskopa i uoceno je da rastu iz amorfnog sloja nakon sto amorfni sloj dostigne odredjenu debljinu, cija precizna vrijednost zavisi od temperature izdvajanja, pritiska i raznih drugih parametara. Ovaj fenomen je interpretiran u okviru Ostvladovih pravila o stanjima koje predvidja formiranje manje stabnilnih faza koje tokom vremena kondenzacija prelaze u stabilnije oblike. Eksperimentalna proucavanja ovog fenomena zahtijevaju odredjeno stanje povrsine supstrata i njegovu gustinu nakon koje se stvara tanki film.
 
[[Kategorija: Fizička hemija]]
 
[[ar:مادة لابلورية]]
525

izmjena