Amorfnost – razlika između verzija
Uklonjeni sadržaj Dodani sadržaj
Nema sažetka izmjene |
Nema sažetka izmjene |
||
Red 8:
Amorfne faze su vazni dijelovi tankih filmova, koji su cvrsti slojevi debljine nekoliko nanometara do nekoliko desetina mikrometara koji su naneseni na supstrat. Za opisivanje mikrostrukture keramike i tankih filmova su razvijeni strukturni modeli zona kao funkcije homologne temperature T<sub>k</sub> koja predstavlja odnos temperature talozenja i temperature topljenja. Prema ovim modelima potreban (ali ne i dovoljan uslov) za pojavljivanje amorfne faze je da T<sub>k</sub> mora biti manje od 0.3 tj. da temperatura talozenja mora biti niza od 30% temperature topljenja. Za vece vrijednosti, povrsinska difuzija izdvojenih atomskih vrsta bi omogucila formiranje kristala sa visokom uredjenoscu atoma.
Sto se tice specificne primjene, amorfni metalni slojevi su igrali vaznu ulogu u diskusiji o navodnoj superprovodljivosti amorfnih metala. Danas se opticki pokrivaci koji se prave od TiO<sub>2</sub>, SiO<sub>2</sub>, Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> itd. i njihove kombinacije se vecinom sastoje od amorfnih faza ovih komponenata. Tanki amorfni filmovi se takodje primjenjuju za razdvajanje gasa kod slojeva membrana. Uglavnom su napravljeni od tankog sloja slojeva SiO<sub>2</sub> koji su debeli nekoliko nm koji sluze kao izolator iznad provodnog kanala MOSFET-a. Takodje, hidrogenizovani amorfni silicijum tj. a-Si:H ima tehnicku primjenu u solarne celije na bazi tankih filmova. Kod a-Si:H nedostatak uredjenosti izmedju atoma silicijuma se javlja zbog prisustva vodonika u vidu nekoliko procenata.
| |||